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pvd真空镀膜
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分析PVD镀膜加工过程的均匀性!

2021-10-10 11:41:32

pvd镀膜工艺非常复杂。由于镀膜原理不同,可分为多种类型。它有一个统一的名称,只是因为它需要高真空度。因此,对于不同原理的PVD真空镀膜,影响均匀性的因素也不同。此外,均匀性的概念本身将随着镀膜规模和镀膜成分的不同而有不同的含义。下面真空镀膜厂家为大家详细介绍一下!

真空镀膜

一、镀膜均匀性的概念:

1、厚度的均匀性也可以理解为粗糙度。就光学镀膜的尺度而言(即1/10波长为一个单位,约100a),pvd真空镀膜的均匀性相当好,粗糙度可以很容易地控制在可见波长的1/10范围内,即对镀膜的光学性能没有障碍。但如果说原子层尺度上的均匀性,即达到10A甚至1a的表面平整度,则是真空镀膜的主要技术内容和技术瓶颈。下面将根据不同的控制因素详细说明镀膜

2、化学成分的均匀性:换言之,在镀膜中,化合物的原子组成容易因尺度小而产生不均匀的特性。如果sito3镀膜的镀膜工艺不科学,则实际表面成分不是sito3,而是其他比例。镀膜的化学成分不是所需的膜,这也是真空镀膜的技术内容。

3、晶格序的均匀性:这就决定了镀膜是单晶、多晶和非晶的,这是真空镀膜技术中的一个热点问题。有关详细信息,请参见以下内容。

二、主要有两类:蒸发沉积镀膜和溅射沉积镀膜有很多种,包括真空离子蒸发法、磁控溅射法、分子束外延法、溶胶-凝胶法等。

1、 对于蒸发镀膜通常,加热靶材以原子簇或离子的形式蒸发表面组分,并通过成膜过程(散射点岛结构-杂散结构-层状生长)沉积在衬底表面形成镀膜。

三、厚度均匀性主要取决于:

1、衬底材料与靶材的晶格匹配度;

2、衬底表面温度;

3、蒸发功率、蒸发率;

4、真空度;

5、镀膜时间和厚度。

四、组件均匀性:蒸发镀膜成分均匀性不易保证,具体可调节因素同上。但由于原理上的限制,非单组分镀膜的蒸发镀膜组分均匀性较差。

五、晶体方向均匀性:

1、晶格匹配度;

2、衬底温度;

3、蒸发率。


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