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pvd真空镀膜
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浅析真空镀膜工艺有哪些特点!

2021-11-10 23:34:48

pvd真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面。它是以真空技术为基础,采用物理或化学方法,吸收电子束、分子束、离子束、等离子体束、射频、磁控等一系列新技术制备薄膜的新工艺。下面,真空镀膜厂家带大家一起来看看pvd镀膜工艺有哪些特点:

(1) 薄膜和衬底选择广泛,膜厚可控制,可制备各种功能的功能薄膜。

(2) 真空制备的薄膜环境清洁,不易污染。因此,可以获得致密性好、纯度高、涂层均匀的薄膜。

(3) 薄膜与基体结合强度好,薄膜牢固。

(4) 干式涂料既不产生废液,也不污染环境。


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