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pvd真空镀膜技术一般分成两类，即物理气相沉积（PVD）技术和有机化学气相沉积（CVD）技术。
物理气相沉积技术就是指在真空泵标准下，运用各种各样物理方式 ，将镀料汽化成原子、分子结构或使其离化作电离，立即沉积到常规表面上的方式 。制取硬质的反映膜大多数以物理气相沉积方式 制取，它运用某类物理全过程，如化学物质的热挥发，或遭受离子轰击时化学物质表面原子的无心插柳等状况，保持化学物质原子从源化学物质到塑料薄膜的可控性迁移全过程。物理气相沉积技术具备膜/基结合性好、塑料薄膜匀称高密度、塑料薄膜薄厚可预测性好、运用的PVD镀膜件普遍、无心插柳范畴宽、可沉积厚膜、可制得成份平稳的铝合金膜和可重复性好等优势。另外，pvd镀膜件物理气相沉积技术因为其处理工艺溫度可操纵在500℃下列，因而可做为最后的工艺处理用作锋钢和硬质合金刀具类的塑料薄膜数控刀片上。因为选用物理气相沉积加工工艺可大大提高数控刀片的加工性，大家在争相开发设计性能、销售电价机器设备的另外，也对其主要用途的拓展，特别是在是在锋钢、硬质合金刀具和瓷器类数控刀片中的运用开展了更为深层次的科学研究。
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