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真空蒸发镀膜的基本工艺流程：
镀前准备→抽真空→离子轰击→烘烤→预熔→蒸发→取件→膜层表面处理→成品。
真空蒸发镀膜的特点：
优点：设备简单易操作，制成的薄膜纯度高、质量好，厚度可较准确控制，成膜速率快，效率高，薄膜生长机理比较简单。
缺点：所形成的薄膜在基材上附着力较小，工艺重复性不够好，不易获得结晶结构的薄膜。
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